15810862528
VCO电磁场软件
报价: 面议
最小起订: 1
有效期至: 长期有效
发布时间: 2020-07-02 10:15
发布IP: 123.58.44.104
浏览次数: 96
手机号: 15810862528
电话: 010-88116820
详细信息

物理层面降低器件或走线电容比较困难,wifi电磁场软件, 需要设法将电容电气特性规避掉, 来解决问

题。 Kleveland 等人设计出分布式 ESD 保护系统, 如下图, 一个四段 ESD 保护结构 CPW, 这

种结构通过调整 CPW 特征阻抗 Z0, 来和源端、 负载端进行阻抗匹配, 避免了早期 ESD 大电

容引起的阻抗不连续。 Z0 调整不但考虑 CPW 的电容、 电感效应, 还要包括 ESD 电容, 具体

计算公式为: Z0=sqrt(Lcpw/(Cesd Ccpw))。




(1)      

对差分线布局优缺点分析,说明差分阻抗和特征阻抗的区别,给出版图布局注意事项,具体思路将按照下面过程完成:

1)  差分对两线长度差异性对信号时延,对EMI问题的影响分析;

2)  差分对是否需要屏蔽地提供回流路径分析,屏蔽地如何进行合理布局;

3)  差分阻抗、差模阻抗公式计算,以及和结果的定性比对;

4)  差分对线间距对差分阻抗的影响分析;

5)  差分对线长和线间距对信号影响的比对分析,在设计中如果二者冲突时,应如何取舍;

6)  差分对两条走线间距缩小对EMI屏蔽效果的影响,分析是否间距越小越好,是否有其他方式可以进行EMI屏蔽。




工艺日益先进,foundry制成加工中LDE效应会导致设计阶段EM sim结果和流片后实测结果偏差越来越大;传统的HFSS、ADS等EM工具没有考虑LDE效应,存在上述偏差风险;peakview软件考虑LDE效应对设计精准度的影响,在配置文件中添加LDE信息,保证sim结果更接近于实测值。




工艺日益先进,foundry制成加工中LDE效应会导致设计阶段EM sim结果和流片后实测结果偏差越来越大;传统的HFSS、ADS等EM工具没有考虑LDE效应,存在上述偏差风险;peakview软件考虑LDE效应对设计精准度的影响,在配置文件中添加LDE信息,保证sim结果更接近于实测值。











相关产品
相关电磁场产品
新闻中心
产品分类
最新发布
站内搜索
 
联系方式
  • 地址:北京海淀区西四环北路160号玲珑天地A座727
  • 电话:010-88116820
  • 手机:15810862528
  • 联系人:刘总